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破坏性物理分析

通过破坏性物理分析,验证元器件的设计、结构、材料和制造质量是否满足规范要求。这包括对生产批的元器件进行非破坏性和破坏性的检查和分析,获取元器件的批质量信息。

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试验项目

确定失效原因的物理分析(PFA),通常需要包含样品制备和观测两部分。
样品制备包含开盖去除封胶 (Decap)、芯片去层 (Delayer)、样品前制样 (结构去除/冷埋塑封/裁切/解焊取样)、剖面/晶背研磨 (Crosssection/Backside)、离子束剖面研磨 (CP)、样品制备。
观测包含扫描式电子显微镜 (SEM)测试&能量色散X射线光谱成份分析(EDX)、电子背散射衍射分析(EBSD)。


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